10月13日下午，首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會勝利閉幕，本次會議為期兩天，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所承辦，中芯國際(SMIC)、長江存儲(YMTC)、華虹集團(tuán)等贊助。會議共有200余人參會，分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機(jī)構(gòu)、高校等。

　　會議開始，大會主席、集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長、科技部原副部長曹健林，國家外專局原局長馬俊如，科技部重大專項(xiàng)辦副巡視員、02專項(xiàng)實(shí)施管理辦公室副主任邱鋼先后為大會致開幕詞。

　　大會副主席、中科院微電子所所長葉甜春就當(dāng)前行業(yè)趨勢作了分析報(bào)告。按照大會安排，在這兩天的時(shí)間里，來自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題作了特邀報(bào)告，深入分析了光刻領(lǐng)域先進(jìn)節(jié)點(diǎn)最新的技術(shù)手段和解決方案，內(nèi)容豐富，包含7nm及以下節(jié)點(diǎn)的計(jì)算光刻技術(shù)、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻設(shè)備、材料等。