光激勵(lì)發(fā)光材料可將短波長(zhǎng)的激發(fā)光能量?jī)?chǔ)存在基質(zhì)陷阱中，并在長(zhǎng)波光子如近紅外光的激勵(lì)下發(fā)射短波光子，在輻射劑量計(jì)、紅外成像、信息存儲(chǔ)和發(fā)光涂料等技術(shù)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。由于近紅外光具有深層生物組織穿透、無背景熒光干擾和對(duì)生物樣本損傷小等優(yōu)點(diǎn)，因此近紅外光激勵(lì)納米發(fā)光材料有望作為一類新型的熒光探針應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域。如何控制材料的陷阱深度和密度來研制出發(fā)光性能優(yōu)良的光激勵(lì)納米材料是其生物應(yīng)用的前提，也是該領(lǐng)域的一個(gè)技術(shù)挑戰(zhàn)。
　　中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所功能納米結(jié)構(gòu)與組裝重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室陳學(xué)元團(tuán)隊(duì)在中科院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專項(xiàng)、中科院創(chuàng)新國(guó)際團(tuán)隊(duì)以及副研究員鄭偉主持的國(guó)家自然科學(xué)基金面上基金、中科院青促會(huì)和海西研究院春苗計(jì)劃等支持下，發(fā)展出一種獨(dú)特的高溫共沉淀法合成單分散、形貌粒徑均一的CaS:Eu2+, Sm3+光激勵(lì)納米晶（圖1）。該團(tuán)隊(duì)通過熒光光譜、余輝光譜、熱釋光譜和光激勵(lì)光譜等測(cè)試手段，對(duì)材料的陷阱分布、充放電過程以及光激勵(lì)發(fā)光機(jī)理進(jìn)行了系統(tǒng)研究（圖2）。研究表明，Sm3+的摻雜增加了材料的陷阱深度，顯著提升了納米晶的光激勵(lì)發(fā)光性能。經(jīng)過熱處理去除表面和晶格內(nèi)部的缺陷猝滅中心，該納米晶在650 nm具有較強(qiáng)的Eu2+的光激勵(lì)發(fā)光，且在近紅外800—1600 nm的寬譜段都有很好的光激勵(lì)響應(yīng)，其光激勵(lì)持續(xù)發(fā)光時(shí)間大于2 h，980 nm的激勵(lì)光閾值功率密度小于10 mW cm-2。該納米晶經(jīng)生物素化兩親性磷脂分子包覆可作為光激勵(lì)熒光納米探針，用于生物素受體過表達(dá)腫瘤細(xì)胞的靶向熒光成像。該工作為發(fā)展高效的近紅外光激勵(lì)稀土熒光納米探針提供了理論基礎(chǔ)，也為光激勵(lì)稀土納米探針在無背景熒光生物檢測(cè)與成像領(lǐng)域的新應(yīng)用開辟了方向。相關(guān)結(jié)果以全文形式發(fā)表在英國(guó)皇家化學(xué)會(huì)Chemical Science 雜志并被選為封底（Chem. Sci. 2019, DOI: 10.1039/C9SC01321K, featured as Outside Back Cover），福建物構(gòu)所/上?？萍即髮W(xué)聯(lián)培生高宇是該論文的第一作者。
　　此前，陳學(xué)元團(tuán)隊(duì)在稀土近紅外納米熒光標(biāo)記材料的電子結(jié)構(gòu)、光學(xué)性能和生物應(yīng)用研究方面取得一系列進(jìn)展。例如，以Eu3+為結(jié)構(gòu)探針，揭示了Nd3+在LiLuF4納米晶中的局域電子能級(jí)結(jié)構(gòu)并實(shí)現(xiàn)高靈敏溫度探測(cè)（Adv. Sci. 2019, 6, 1802282）；設(shè)計(jì)合成NaCeF4:Er3+近紅外二區(qū)熒光納米探針，實(shí)現(xiàn)對(duì)人體血清中尿酸的高靈敏檢測(cè)及對(duì)小鼠深層組織高分辨成像（Chem. Sci. 2018, 9, 4682-4688）；發(fā)展一種新型高效可用藍(lán)光LED激發(fā)的CaS:Ce3+/Er3+和CaS:Ce3+/Nd3+近紅外二區(qū)熒光納米探針，實(shí)現(xiàn)對(duì)人體血清黃嘌呤的高靈敏特異性體外檢測(cè)（Angew. Chem. Int. Ed. 2019, DOI: 10.1002/anie.201905040）。
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圖1 近紅外寬光譜響應(yīng)CaS:Eu2+,Sm3+光激勵(lì)稀土納米熒光標(biāo)記示意圖（Chem. Sci.封底）

　　圖2 CaS:Eu2+,Sm3+光激勵(lì)納米熒光標(biāo)記材料: a) 光勵(lì)激發(fā)光譜, b) 功率依賴發(fā)射光譜, c) 發(fā)光強(qiáng)度與功率依賴關(guān)系, d) 光激勵(lì)熒光衰減曲線, e) 光激勵(lì)熒光響應(yīng)曲線, f) 發(fā)光機(jī)理示意圖