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中國科學技術(shù)大學熊宇杰教授課題組設(shè)計出一類具有原子精度殼層結(jié)構(gòu)的助催化劑,在降低貴金屬鉑助催化劑用量的同時,大幅度提高光解水制氫性能,為開發(fā)低成本、高性能光催化材料提供了新途徑。該成果于近日在線發(fā)表在國際重要化學期刊《德國應(yīng)用化學》上,并被選為該期刊的“非常重要論文”。
太陽能被認為是21世紀最清潔的能源,而光解水制氫是一種可以直接將太陽輻射能轉(zhuǎn)化為氫能的途徑。助催化劑可以促進太陽能產(chǎn)生的電荷與反應(yīng)水分子的相互作用。貴金屬鉑材料早已證實是一類優(yōu)異的光解水制氫助催化劑,但其成本較高。
熊宇杰小組基于先前發(fā)展的電子驅(qū)動作用機制,別出心裁地設(shè)計出一類具有原子精度殼層的鈀—鉑核殼結(jié)構(gòu)助催化劑。這種設(shè)計利用鈀—鉑金屬間的電勢差作為半導體中光生電子的“運動”驅(qū)動力,使得電子自發(fā)地依次從半導體向金屬鈀、鉑“跑位”,最后聚集在金屬鉑殼層的外表面,從而驅(qū)動了金屬鉑表面的高效光解水制氫反應(yīng)。合作者江俊教授通過理論模擬,描述了該電荷演化過程;路軍嶺教授課題組以一氧化碳為探針分子,在紅外光譜中清晰地反映出電荷在金屬鉑表面的選擇性聚集效應(yīng),從而證實了該作用機制。
該電子驅(qū)動作用機制針對金屬鉑殼層厚度提出了原子精度的高要求,為此研究人員相應(yīng)發(fā)展了殼層厚度精準控制的合成方法,無需使用成本高昂的原子層沉積技術(shù)即可生長少數(shù)原子層厚度的金屬殼層。
熊宇杰介紹,基于該技術(shù),光解水制氫效率與無助催化劑的半導體光催化劑相比提高了322倍,比傳統(tǒng)純鉑助催化劑的半導體光催化劑體系提高8.2倍。同時,該設(shè)計以相對廉價的鈀內(nèi)核替代了金屬鉑,使材料成本降低了1/3以上。
?。ㄔd于《科技日報》 2015-11-01 01版)
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